Tento objektív umožňuje ovládanie perspektívy a hĺbky poľa štúdiových snímok vďaka starostlivo kalibrovaným pohybom, vynikajúcej optickej konštrukcii a presným šošovkám z lisovaného skla, ktoré prinášajú nízku mieru skreslenia, výnimočné rozlíšenie a pomer makra 1 : 2.

Ovládanie hĺbky poľa
Zmeňte rovinu zaostrenia, čím nasmerujte viac pozornosti na snímaný objekt a upravíte hĺbku poľa priamo pri jeho snímaní bez potreby počítača.

Korekcia perspektívy snímaného objektu
Presné pohyby umožňujú naklonenie o ±10° a posun o ±12 mm spolu s otočením funkcií naklonenia/posunu o +/-90° v ľubovoľnom smere na dosiahnutie výnimočného ovládania perspektívy..

Úprava detailov makro zaostrenia
Makro zaostrenie 49 cm znamená obrázky v životnej veľkosti 1 : 2 so špeciálnym zaostrením s pridaným ovládaním perspektívy a hĺbkou poľa.

Vynikajúca optika a dizajn
Asférické prvky objektívu a prvky UD minimalizujú chromatickú aberáciu, zatiaľčo štruktúrovaná povrchová úprava Subwavelength minimalizuje efekt duchov a oslnenia..

Praktická 135mm ohnisková vzdialenosť
Ohnisková vzdialenosť 135 mm prináša komprimovanú perspektívu s výhodou jej ovládania na opravenie vertikálnych línií, úpravu roviny zaostrenia a maximalizovanie hĺbky poľa.

Obsah balenia
Predný kryt objektívu E-82II, zadný kryt objektívu E,slnečná clona ET-88, puzdro pre objektív LP1424.